Sistemi sa hemijskim taloženjem pare

Konvencionalne kategorije vakuum procesa taloženja uključuju hemijska taloženja pare (Chemical vapor deposition CVD) fizičko taloženje pare (Physical vapor deposition PVD), isparavanje kroz vakuum sublimacije, ili povremeno, neku kombinaciju prethodno pomenutih metoda. Ovo su samo neki od načna razvoja tankog filma.

Kao predstavnik svetske Američke kompanije TORR International Inc., specijaliste u oblasti nanotehnologije i tehnologije tankog filma, Kvark Vam nudi razna rešenja, koja možete pogledati u nastavku.

Hemijsko taloženje pare (CVD) je hemijski proces koji se koristi za proizvodnju čvrstih materijala visokog kvaliteta, visokih performansi. U tipičnom procesu, supstrat je izložen jednoj ili više isparljivih prekursorima, koje reaguju i/ili razlažu na površini supstrata da proizvede željeni depozit.

U okviru CVD (Chemical vapor deposition) sistema, Kvark Vam nudi razne bazične i nadogradive sisteme, izrađene po specifičnoj potrebi korisnika:

• Atomic layer deposition system
• CVD, PECVD, MOCVD systems